99精品国产免费久久久久久按摩_免费日本黄色网站_国产日产韩国精品视频_亚洲一级黄不卡在线播放放_久久精品午夜91无码免费

咨詢熱線

13810961731

當(dāng)前位置：首頁  >  產(chǎn)品展示  >  磁控濺射  >  

  • 磁控共濺鍍設(shè)備
    磁控共濺鍍設(shè)備

    磁控共濺鍍設(shè)備是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍，濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料，通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍（靶材）的功率來控制薄膜品質(zhì)，其薄膜厚度取決於濺鍍時間。

    更新時間：2024-07-10型號：訪問量：525
    查看詳情
  • 磁控濺鍍
    磁控濺鍍

    磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術(shù)中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當(dāng)?shù)木嚯x放置在靶材的前面。

    更新時間：2024-07-10型號：訪問量：393
    查看詳情
共 10 條記錄，當(dāng)前 2 / 2 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉(zhuǎn)到第頁