化學(xué)氣相沉積

簡(jiǎn)要描述：化學(xué)氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環(huán)境中制造高質(zhì)量與高性能的固體材料。因此，該制程通常在半導(dǎo)體工業(yè)中用于制造薄膜。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-07-10
訪問(wèn) 量：447

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類

Product Category

沉積系統(tǒng)

便攜式樣品傳送腔體激光沉積系統(tǒng) 原子層沉積設(shè)備

查看全部

相關(guān)文章

原子層沉積和磁控濺射的區(qū)別看完本篇你就會(huì)對(duì)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)有更多了解指紋鑒定用什么蔡司顯微鏡關(guān)于掃描電鏡的結(jié)構(gòu)組成盡在本篇奧林巴斯偏光顯微鏡BX53P的操作步驟以及正確維護(hù) 場(chǎng)發(fā)射顯微鏡工作原理

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子

CVD 化學(xué)氣相沉積（CVD）為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露於一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用於在真空環(huán)境中製造高質(zhì)量與高性能的固體材料。因此，該製程通常在半導(dǎo)體工業(yè)中用於製造薄膜。

化學(xué)氣相沉積

Figure 1:化學(xué)氣相沉積的步驟

在典型的CVD中，將前驅(qū)物在室溫下進(jìn)料到反應(yīng)腔體中。當(dāng)它們與加熱的基板接觸時(shí)，它們發(fā)生反應(yīng)或分解以形成薄膜，並沉積在基材上。在此過(guò)程中，還會(huì)產(chǎn)生副產(chǎn)物，這些副產(chǎn)物可通過(guò)流經(jīng)反應(yīng)腔體的氣流除去。其製程溫度非常重要，會(huì)影響其化學(xué)反應(yīng)。