電子束蒸鍍?cè)O(shè)備

簡(jiǎn)要描述：電子束蒸鍍?cè)O(shè)備是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)。單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

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更新時(shí)間：2024-07-10
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電子束

激光光刻系統(tǒng) 納米加工

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電子束蒸鍍?cè)O(shè)備介紹

SYSKEY的電子束沉積是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)。單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

電子束蒸鍍?cè)O(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域	腔體
光學(xué)材料研究(LED/Laser Diode)。光電元件。半導(dǎo)體元件。	由304不銹鋼所製成，通過外部焊接304不銹鋼管線對(duì)腔體進(jìn)行水冷。寬大的前開式門，並有兩個(gè)視窗和視窗遮版用於觀察基材和電子束源。腔體的極限真空度約為10-8 Torr。
配置和優(yōu)點(diǎn)	選件
客製化的基板尺寸，最大直徑可達(dá)12寸晶圓。單載片或多載片（2" x 32個(gè)，4" x 16個(gè)，6" x 6個(gè)，8" x 4個(gè)）。優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉(zhuǎn)電子束源（1/2/4/6坩堝）。自動(dòng)鍍膜系統(tǒng)。具有順序操作或共沉積的多個(gè)電子束源。基板具有冷卻（液態(tài)氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度最高800°C）等功能。	可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。結(jié)合離子源、濺鍍槍、熱蒸發(fā)源、等離子清潔...。