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簡(jiǎn)要描述：激光光刻系統(tǒng)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個(gè)激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-07-10訪 問(wèn) 量：608產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
|---|
PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個(gè)激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。
具有以下功能：
單聚焦光束寫(xiě)入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096級(jí)灰度光刻
即使在具有挑戰(zhàn)性的基材上也能進(jìn)行專有自動(dòng)對(duì)焦
最大 8" x 8" 暴露區(qū)域
無(wú)縫合曝光
PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)為您的微加工需求提供解決方案。
提供 405 和 375 激光源，保證 300 nm 的分辨率，因此 PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)可產(chǎn)生市場(chǎng)上最高分辨率。這些無(wú)掩模直接激光刻錄機(jī)增強(qiáng)了科學(xué)和工業(yè)目的的創(chuàng)新實(shí)力，為光子器件、微電子、MEMS、3D 光刻、光學(xué)可變器件 (OVD)、衍射光學(xué)元件等領(lǐng)域的研發(fā)帶來(lái)了機(jī)會(huì)。
P RECISION：即使對(duì)于精細(xì)劑量也能提供高精度激光功率控制，即使在具有挑戰(zhàn)性的樣品上也能自動(dòng)對(duì)焦，并且具有對(duì)準(zhǔn)精度
解決方案：為特征和光柵提供的分辨率，特征周期低至 300 nm 以下
優(yōu)化：可以通過(guò)桌面或獨(dú)立系統(tǒng)選擇、適當(dāng)?shù)募す庠床ㄩL(zhǎng)和寫(xiě)入模式選擇來(lái)針對(duì)任何類型的應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化
輪廓分析：提供高達(dá) 4096 級(jí)的灰度功能，而不影響曝光速度，實(shí)現(xiàn)2.5D 抗蝕劑輪廓分析
易于使用：內(nèi)部設(shè)計(jì)的對(duì)齊工具和強(qiáng)大的用戶界面支持輕松的樣品處理，方便處理最常見(jiàn)的文件格式
降低維護(hù)成本：通過(guò)免維護(hù)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)和長(zhǎng)壽命光學(xué)模塊（10,000 小時(shí)）實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)、快速且經(jīng)濟(jì)高效的維護(hù)，該模塊易于更換，無(wú)需上門(mén)服務(wù)
PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)在可配置的平臺(tái)上工作，該平臺(tái)可以根據(jù)您的應(yīng)用或特定實(shí)驗(yàn)室條件進(jìn)行優(yōu)化，以滿足您的需求。PICOMASTER 可以是桌面或獨(dú)立系統(tǒng)，可以針對(duì)不同類型的抗蝕劑具有不同的激光波長(zhǎng)，并且可以為各種應(yīng)用提供不同的光斑尺寸。如果需要，它可以與環(huán)境穩(wěn)定裝置結(jié)合使用。
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