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自動(dòng)光譜橢偏儀SENDURO®

簡(jiǎn)要描述:自動(dòng)光譜橢偏儀SENDURO®所有的全自動(dòng)光譜橢偏免除了用戶根據(jù)高度和傾斜度手動(dòng)地對(duì)準(zhǔn)樣品的麻煩,這對(duì)于高精度和可重復(fù)的光譜橢偏是必要的。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-07-10
  • 訪  問(wèn)  量:959

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域化工,電子

自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)

自動(dòng)光譜橢偏儀SENDURO®所有的全自動(dòng)光譜橢偏免除了用戶根據(jù)高度和傾斜度手動(dòng)地對(duì)準(zhǔn)樣品的麻煩,這對(duì)于高精度和可重復(fù)的光譜橢偏是必要的。該自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)傳感器大大減少了操作誤差,適用于透明和反射樣品,即使在彎曲的樣品上也可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)掃描。

操作簡(jiǎn)單

配方模式非常適合于生產(chǎn),工藝監(jiān)控以及研發(fā)的常規(guī)應(yīng)用。該光譜橢偏儀帶有隨機(jī)可的配方數(shù)據(jù)庫(kù),可以根據(jù)您的具體需要對(duì)其進(jìn)行修改。

步進(jìn)掃描分析器

自動(dòng)光譜橢偏儀SENDURO®步進(jìn)掃描分析器SSA是SENTECH光譜橢偏技術(shù)的一個(gè)特征。分析樣品的總時(shí)間只需幾秒鐘。

SENDURO® 可測(cè)量透明和反射基片上單層薄膜和層疊膜的折射率和厚度。SENDURO® 自動(dòng)掃描則實(shí)現(xiàn)了較高的樣品速度,化安裝工作量和低的維護(hù)成本。該光譜橢偏儀的自動(dòng)掃描具有預(yù)定義或用戶定義的模式、允許廣泛的統(tǒng)計(jì)特性和數(shù)據(jù)圖形顯示。

SENDURO® 是SENTECH自動(dòng)化,占地面積小,設(shè)計(jì)緊湊的橢偏儀的代表。測(cè)量臺(tái)包括橢偏儀光學(xué)部件、自動(dòng)傾斜和高度傳感器、電動(dòng)樣品臺(tái)和控制器電子設(shè)備,它們?nèi)烤o湊的組合。為了達(dá)到更高產(chǎn)量的要求,我們的光譜橢偏儀也提供了片盒站裝載尺寸到300 mm的大晶片。

SENDURO® 以其高樣品測(cè)量速度,易于操作和自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)在工業(yè)應(yīng)用中表現(xiàn)出色。應(yīng)用范圍從半導(dǎo)體上的介質(zhì)膜到玻璃上的多層光學(xué)涂層。

SENDURO® 優(yōu)異的光譜橢偏軟件具有配方模式和工程模式。配方模式致力于重復(fù)應(yīng)用程序的簡(jiǎn)單執(zhí)行。密碼控制的用戶登錄允許不同級(jí)別的用戶登錄。在交互模式下,橢偏測(cè)量通過(guò)交互式的,指導(dǎo)性的圖形用戶界面得到增強(qiáng)。此外,可以使用材料數(shù)據(jù)庫(kù)和散射模型修改已經(jīng)存在的配方或建立新的配方。

Multi sample stage with semitransparent substratesMultilayer analysis by SpectraRay/3Compact housing of semi-automated ellipsometerCassette station for up to 300 mm waferSENDURO® 300 with cassette-to-cassette loadingApplicable measurement tool for R?&?DThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µmThickness map of Al2O3 / Si (substrate) according to SEMI standardApplicable for measurement in cleanroom environment


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